| 品牌 | 昊量光電 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
MCP 微通道板
昊量光電的 MCP 技術(shù)采用與阿貢實驗室共同開發(fā)的專有制造方法，可實現(xiàn)成像區(qū)域和可定制的幾何形狀。它將毛細(xì)管陣列 （GCA） 與通過原子層沉積 （ALD） 應(yīng)用于通道的薄膜涂層相結(jié)合，使 MCP 功能化，并允許根據(jù)特定應(yīng)用定制作參數(shù)。與傳統(tǒng)的基于氧化鉛的 MCP 技術(shù)相比，昊量光電的 ALD-GCA-MCP 技術(shù)更加具有優(yōu)勢。MCP 微通道板
采用原子層沉積技術(shù)在玻璃毛細(xì)管陣列上制備了電阻性和發(fā)光性涂層。
MCP的主要應(yīng)用：
用于光子和粒子檢測的光電倍增管
紫外光譜儀
飛行時間（TOF）
掃描電子顯微鏡
殘余氣體分析儀
MCP的優(yōu)勢：
尺寸可達(dá) 20 厘米×20 厘米
提供平面和彎曲型基板
二次電子發(fā)射率高
背景噪聲低
增益穩(wěn)定且使用壽命長
伽馬射線敏感度低
機(jī)械和環(huán)境穩(wěn)定性高
MCP的規(guī)格：
| MCP gain at 1000 V | >1 x 104 |
| Open area ratio | ≥ 65% |
| SEE Materials | Al2O3 or MgO |
| Resistance range | Fully customizable |
| Background | <0.05 events / sec / cm2 |
| Gain stability | > 7 C/cm2 |
| Gama ray sensitivity | ~ 3X lower than conventional PbO-MCPs |
| L/d | 60:1 (customizable upon request) |
| Bias angle | 13° (customizable upon request) |
| Pore size | 5μm, 10μm, 20μm |
| Part dimensions | Up to 20 cm x 20 cm |
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